技术秘密与专利的区别

技术秘密和专利是两种不同的知识产权保护形式，在多个方面存在明显差异。

专利是国家专利局授予的法定专有权，使专利权人在一定时期内对其发明创造享有独占权。专利申请获得授权后，技术方案会公开，可供任何人查阅。专利有明确的保护期限，发明专利保护期为 20 年，实用新型专利为 10 年，外观设计专利为 15 年。保护期满后，专利技术进入公有领域，可自由使用，不再受法律保护。

而技术秘密是一种事实上的专有权，依靠权利人的保密措施来保持其秘密性。技术秘密需做到不为公众所知悉，只要技术未被公开，就不存在保护期限的限制，适用于产品配方、工艺流程、技术秘诀、设计、图纸、试验数据和记录、计算机程序等技术的保护。